Сущность процесса маскирования при травлении в hf

Содержание

Введение …………………………………………………………………… 3-4

1. Сущность процесса маскирования при травлении в hf ………………. 5-8

2. Используемые типы травителей, режимы травления, типы масок ….. 9-15

3. Процесс травления стекла плавиковой кислотой …………………….. 16

4. Основная часть

4.1. Визуализация дефекта ……………………………………………….. 17-18

4.2. Растворы травления ………………………………………………….. 19-23

Заключение ………………………………………………………………… 24

Библиографический список ……………………………………………..... 25-26

Введение

Травление - это группа способов удаления поверхностного слоя материала с заготовки под действием специально подбираемых химических реактивов. Многие способы травления предусматривают активацию травящих реагентов посредством других физических явлений, к примеру, наложением внешнего электрического поля при электрохимическом травлении, ионизацией атомов и молекул реагентов при ионно-плазменном травлении.

В литературных источниках термин «травление», в основном, сопровождается определением, которое поясняет конкретный способ травления (химическое, кислотное, щелочное, электрохимическое). При использовании термина «травление» без дополнительного определения, как правило, подразумевается химическое травление в водном электролите. Если часть поверхности, которая подвергается травлению, требуется сохранить, то она защищается (химически или механически) путём наложения специальной маски.

Основными видами травления являются: химическое («жидкое»), электрохимическое, ионно-плазменное («сухое»).

Актуальность темы настоящей работу обусловлена широким применением процесса травления в различных отраслях промышленного производства, а маскирование в этом процессе выступает своего рода компонентом защиты различных поверхностей от повреждения. Травление используется в:

• снятии поверхностного слоя загрязнений, окислов, жировой пленки (к примеру, окалины с полуфабриката в металлургии);

• определении структуры материалов (к примеру, структуры металлов и сплавов при металлографии);

• нанесении рельефного рисунка при художественной обработке материалов (обычно металлов);

• в изготовлении проводящих дорожек при производстве печатных плат;

• формировании проводящих дорожек и окон в слоях окисла для диффузии при изготовлении интегральных схем методом фотолитографии;

• изготовлении мембран (вытравливание сверхмалых отверстий с применением метода фотолитографии);

• в процессе химической полировки поверхности и удаления, нарушенного в ходе предшествующей механической обработки слоя.

Объект изучения в настоящей работе – маскирование в процессе травления в hf. Предмет изучения – виды способов маскирования, необходимые условия и реагенты. Целью работы является изучение основных способов маскирования при травлении в hf, а также условий, необходимых для эффективного осуществления данного процесса, качественный выбор необходимых реагентов.

При написании данного курсового проекта были обозначены следующие задачи:

1. Проанализировать существующие библиографические источники, научную, техническую, а также методическую литературу, сведения, находящиеся в сети Интернет.

2. Предоставить информацию о способах маскирования при травлении hf, рассмотреть необходимые условия, требующиеся для эффективной реализации данного процесса.

3. Изучить монографии и научные статьи современного периода, рассмотреть состояние вопроса на сегодняшний день.