Сущность процесса маскирования при травлении в hf
Автор: wekenando • Февраль 4, 2019 • Реферат • 4,776 Слов (20 Страниц) • 525 Просмотры
Содержание
Введение …………………………………………………………………… 3-4
1. Сущность процесса маскирования при травлении в hf ………………. 5-8
2. Используемые типы травителей, режимы травления, типы масок ….. 9-15
3. Процесс травления стекла плавиковой кислотой …………………….. 16
4. Основная часть
4.1. Визуализация дефекта ……………………………………………….. 17-18
4.2. Растворы травления ………………………………………………….. 19-23
Заключение ………………………………………………………………… 24
Библиографический список ……………………………………………..... 25-26
Введение
Травление - это группа способов удаления поверхностного слоя материала с заготовки под действием специально подбираемых химических реактивов. Многие способы травления предусматривают активацию травящих реагентов посредством других физических явлений, к примеру, наложением внешнего электрического поля при электрохимическом травлении, ионизацией атомов и молекул реагентов при ионно-плазменном травлении.
В литературных источниках термин «травление», в основном, сопровождается определением, которое поясняет конкретный способ травления (химическое, кислотное, щелочное, электрохимическое). При использовании термина «травление» без дополнительного определения, как правило, подразумевается химическое травление в водном электролите. Если часть поверхности, которая подвергается травлению, требуется сохранить, то она защищается (химически или механически) путём наложения специальной маски.
Основными видами травления являются: химическое («жидкое»), электрохимическое, ионно-плазменное («сухое»).
Актуальность темы настоящей работу обусловлена широким применением процесса травления в различных отраслях промышленного производства, а маскирование в этом процессе выступает своего рода компонентом защиты различных поверхностей от повреждения. Травление используется в:
• снятии поверхностного слоя загрязнений, окислов, жировой пленки (к примеру, окалины с полуфабриката в металлургии);
• определении структуры материалов (к примеру, структуры металлов и сплавов при металлографии);
• нанесении рельефного рисунка при художественной обработке материалов (обычно металлов);
• в изготовлении проводящих дорожек при производстве печатных плат;
• формировании проводящих дорожек и окон в слоях окисла для диффузии при изготовлении интегральных схем методом фотолитографии;
• изготовлении мембран (вытравливание сверхмалых отверстий с применением метода фотолитографии);
• в процессе химической полировки поверхности и удаления, нарушенного в ходе предшествующей механической обработки слоя.
Объект изучения в настоящей работе – маскирование в процессе травления в hf. Предмет изучения – виды способов маскирования, необходимые условия и реагенты. Целью работы является изучение основных способов маскирования при травлении в hf, а также условий, необходимых для эффективного осуществления данного процесса, качественный выбор необходимых реагентов.
При написании данного курсового проекта были обозначены следующие задачи:
1. Проанализировать существующие библиографические источники, научную, техническую, а также методическую литературу, сведения, находящиеся в сети Интернет.
2. Предоставить информацию о способах маскирования при травлении hf, рассмотреть необходимые условия, требующиеся для эффективной реализации данного процесса.
3. Изучить монографии и научные статьи современного периода, рассмотреть состояние вопроса на сегодняшний день.
...