Литография

Сегодня невозможно представить себе производство микроэлектроники без литографии. Повышение уровня информатизации, современные объем данных и потребности человека в вычислительных мощностях – всё это требует изготовления и использования более мощных процессоров.

Несомненно, литография является неотъемлемой частью изготовления процессоров, важность, которой сложно переоценить. Это универсальный способ получения изображения элементов микросхемы на кристалле полупроводника. Развитие технологий литографии позволило постепенно увеличивать количество транзисторов на один дюйм. Одним из этапов её развития стало внедрение фотолитографии в 1957 г., что определило дальнейшее развитие элементной базы и позволило перейти от дискретных элементов к интегральным.

Одним из видов литографии является фотолитография. Фотолитография — метод получения определённого рисунка на поверхности материала с помощью света и резиста(светочувствительного слоя). Сейчас можно сказать, что именно успешное развитие фотолитографии стало движущей силой, определяющей темпы развития микроэлектроники.

Позднее, в процессе усовершенствования технологий фотолитографии, была разработана ультрафиолетовая литография, а впоследствии – экстремальная ультрафиолетовая (EUV) литография. Особенностью технологии EUV является то, что в ней используется свет с длиной волны 13, 5 нм на границе с рентгеновским излучением из-за чего требуется строгое соблюдение особых условий: проведение процесса в вакууме и использование специальных материалов, не поглощающих этот спектр.

На сегодняшний день EUV-литография это наиболее эффективная